K&F Concept Nano-X MRC UV Protection Filter 82 mm Ultra Low Reflection

Ja gribi pasargāt dārgo objektīvu, nezaudējot attēla kvalitāti, šis filtrs ir domāts tev. K&F Concept Nano-X MRC UV aizsargfiltrs ar 82 mm diametru nodrošina ultra zemu atstarošanos (<0.3%) un augstu gaismas caurlaidību (>99.6%), tāpēc tas praktiski neietekmē kadru. 28 slāņu Nano-X pārklājums (14 katrā pusē) padara to ūdens-, eļļas-, skrāpējumizturīgu un antistatisku – ideāli piemērots gan studijā, gan dabā.

Priekšrocības

Filtrs aizsargā objektīvu no putekļiem, skrāpējumiem un triecieniem, vienlaikus samazinot UV miglu un uzlabojot krāsu kontrastu. Pateicoties plānajam rāmim, tas neredzēsies platleņķa objektīviem, un abpusējā vītne ļauj likt virsū vāciņu vai papildu filtrus. Nano-X pārklājums atvieglo tīrīšanu – traipi un ūdens pilieni viegli noslīd nost.

Kam piemērots

• Fotogrāfiem ar 82 mm filtru vītnes objektīviem
• Ainavu un āra fotogrāfijā, lai samazinātu UV miglu
• Dārgu objektīvu aizsardzībai skarbos apstākļos
• Studijas un portretu fotogrāfijā, kur svarīga maksimāla skaidrība

Galvenās specifikācijas

• Filtra tips: UV aizsargfiltrs
• Filtra diametrs: 82 mm
• Pārklājums: Nano-X Multi-Resistant (MRC)
• Pārklājuma slāņi: 28 (14 katrā pusē)
• Gaismas caurlaidība: >99.6%
• Atstarošanās: <0.3%
• Stikls: Japānas AGC optiskais stikls
• Rāmja materiāls: Aviācijas alumīnija sakausējums
• Rāmja tips: Īpaši plāns
• Ūdensizturīgs: Jā
• Eļļasizturīgs: Jā
• Skrāpējumizturīgs: Jā
• Antistatisks: Jā
• Vītne: Abpusēja (priekšā un aizmugurē)
• Filtra faktors: 1 (nav nepieciešama ekspozīcijas kompensācija)
• Funkcija: Aizsargā objektīvu, samazina UV miglu

Ieteikumi

Lai samazinātu atspīdumus, kombinē ar objektīva pārsegu. Tīrīšanai izmanto mikrošķiedras drāniņu. Der visiem objektīviem ar 82 mm filtru vītni.